Как известно, существует два подхода к синтезу пленок графена большой площади. Первый подход заключается в химическом осаждении из газовой фазы, для которого необходимы высокая температура осаждения и специальная подложка (в ряде случаев монокристаллическая). Второй подход заключается в нанесении графена из жидкой фазы. Первый подход позволяет получить наноэлектронные устройства с необычайно высокой подвижностью носителей заряда, однако этот метод слишком дорог для промышленного производства. Второй же подход, несмотря на более низкую подвижность зарядов, куда более дешев, а значит, именно он с большей долей вероятности найдет применение в промышленном производстве.

Международный коллектив авторов из Великобритании и США предложил свой метод нанесения пленок моно- и многослойного графена из жидкой фазы. Сначала на подложку SiO2/Si был нанесен раствор оксида графена, который распределялся по подложке в течение некоторого времени, после чего подложка приводилась во вращение, и над центром подложки продувался азот. После того как пленка оксида графена была нанесена, она может быть перенесена с помощью слоя полиметилметакрилата на любую подходящую подложку, подобно тому, как это было описано ранее, а затем восстановлена до графена. Варьируя скорость вращения подложки, удается получить пленку оксида графена, состоящую из различного числа слоев.